奈米白光干涉仪
奈米白光干涉仪
AE-100M系列

奈米3D显微形貌快速呈现
白光干涉显微检测仪的相移垂直扫描的专利技术与显微光干涉技术,不需要复杂光路调整程序,即可在非接触、无破坏、普通大气环境下完成3D奈米深度的表面检测分析,不仅提供3D表面形状和表面纹理的分析,更可提供镜面表面的奈米级粗糙度和台阶高度分析, 并追溯至ISO国际规范。
SWIM系列扫描白光干涉显微检测仪,具有极强的测量能力,可在几秒内就完成整个视场的扫描,得到测量样品的3D图形与高度数据,检测速度与深度量测能力优於逐点逐面扫描的 共焦扫描显微镜,3D图形量测能力又优於扫描式电子显微镜的2D平面检测能力,且不需要使用电子束或雷射,开机快又安全,维护成本更低。
无论是抛光面,还是粗糙面,甚至是高透明材质(例如石英),只要有超过1%以上的反射率就能够被检测。 SWIM系列显微检测仪适合各种材料与微元件表面特徵和微尺寸检测。
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相移垂直扫描专利技术,使深度解析度达0.1nm
SWIM系列显微检测仪提供Z轴扫描解析度0.1nm,平面空间分辨力0.5 um (50X物镜)的量测能力,最高达12 um/s的垂直扫描速度,所具有的奈米3D显微形貌快速呈现能力是科研、研发、生产品检时所必备的工具。
AE-100M系列 (通用规格)
AE-100M系列
型号 | AE-100M | ||
移动台行程 | 100X100 | ||
物镜放大倍率 | 10X | 20X | 50X |
观察与量测范围(mm) | 0.43X0.32 | 0.21X0.16 | 0.088X0.066 |
光学解析度(um)mm | 0.92 | 0.69 | 0.5 |
收光角度(Degrees) | 17 | 23 | 33 |
工作距离 | 7.4 | 4.7 | 3.4 |
CCD解析度 | 640X480 | ||
Z轴移动范围 | 80mm,手动,粗调/微调 | ||
Z轴位置显示器 | 解析度1u | ||
倾斜调整平台 | 双轴/手动 | ||
高度量测 | |||
量测范围 | 100um(400um选配) | ||
量测解析度 | 0.1nm | ||
重覆解析度 |
0.1% (量测高度:>10um) 10nm (量测高度:>1um~10um) 5nm (量测高度:<1um) |
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量测控制 | AUTO | ||
扫瞄速度(um/s) | 12(最高) | ||
光源 | |||
光源类型 | 仪器用卤素(冷)光源 | ||
平均使用寿命 | 1000小时(100w) 500小时(150w) | ||
光强度调整 | 自动/手动 | ||
电源与环境要求 | |||
电源 | AC110/220V,50/60HZ | ||
环境震动要求 | VC-C | ||
量测与分析软体 | |||
量测软体 |
Imgcan量测软体 具 VSI / PVSI / PSI量测模式(PSI量测模式需另选配PSI模 组搭配) |
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分析软体 |
PostTopo分析软体: 1。ISO粗糙度/阶高分析 2。外型/面积/体积分析 3。报表输出 |